清洗簡(jiǎn)單的高剪切均質(zhì)機(jī)

簡(jiǎn)要描述：CIK清洗簡(jiǎn)單的高剪切均質(zhì)機(jī)體現(xiàn)在兩個(gè)方面：

一、在線式清洗。可以在不拆卸設(shè)備或元件，在密閉的條件下，用一定溫度和濃度的清洗液對(duì)清洗裝置加以強(qiáng)力作用，使儀器設(shè)備的表面洗凈和殺菌的方法。
二、易拆洗。CIK高剪切均質(zhì)機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì)，拆卸簡(jiǎn)單方便，從而方便均質(zhì)機(jī)的清洗。

產(chǎn)品型號(hào)： CR2000/4

所屬分類：高剪切均質(zhì)機(jī)

更新時(shí)間：2025-06-01

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CIK清洗簡(jiǎn)單的高剪切均質(zhì)機(jī)體現(xiàn)在兩個(gè)方面：

一、在線式清洗?？梢栽诓徊鹦对O(shè)備或元件，在密閉的條件下，用一定溫度和濃度的清洗液對(duì)清洗裝置加以強(qiáng)力作用，使儀器設(shè)備的表面洗凈和殺菌的方法。
二、易拆洗。CIK高剪切均質(zhì)機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì)，拆卸簡(jiǎn)單方便，從而方便均質(zhì)機(jī)的清洗。
                                    
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CIK高剪切易清洗均質(zhì)機(jī)除了易清洗這個(gè)特點(diǎn)還有許多其他的優(yōu)勢(shì)：
一、采用分體式結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，線速度為41m/s，是普通均質(zhì)機(jī)的4-5倍。
二、采用三級(jí)結(jié)構(gòu)，定轉(zhuǎn)子有5種不同規(guī)格乳化分散盤，由粗到細(xì)，2P/2G/4F/6F/8SF，可根據(jù)想要的效果來(lái)選擇。
三、采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并配有機(jī)封冷卻系統(tǒng)，在保證冷卻水的情況下，可24運(yùn)行。
四、小試設(shè)備和中試設(shè)備，線速度*，小試設(shè)備可為工業(yè)化提供可靠的數(shù)據(jù)支持。

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